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    半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)? MTK-HT

    型號:MTK-HT
    品牌:MTK
    臭氧濃度:臭氧水濃度高 最大30ppm
    臭氧產量:氧氣消耗量~16L/min.
    使用氣源:氧氣源
    產地:日本
    冷卻方式:水冷
    設備尺寸:400*550*850mm
    整機重量:20~100Kg
    推薦指數:comment rank 5
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    進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)
     
    參數
    臭氧生成方式:無聲放電法
    將臭氧氣體溶解于純凈水的方法:噴射方式
    臭氧水中臭氧的濃度監測:紫外吸收法
    臭氧水濃度:最高為30ppm
    臭氧水流量:最高50L /min
    設備尺寸:寬度400mm 深度550mm 高度850毫米(標準型)
    重量:20 ~ 100Kg
    消耗功率:~3KW
    氧氣壓力:為0.1MPa(供給為0.3MPa)
    氧氣純度:99.5%(指定)
    氧氣消耗量:~16L/min.
    供應純凈水的壓力:0.20Mpa以上(理想值0.25MPa)
    供應純凈水的溫度:低于25℃
    臭氧氣體生成部的冷卻水溫度:理想值為20℃以下。如無法實現,需根據情況增加冷卻器(可選)。
    CO2氣體消耗量(臭氧濃度過高時需通過純凈水注入):大約100cc/min
    半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置(MTK)
    特點
    臭氧水濃度高
    (最大30ppm)
    ■臭氧水中無金屬雜質
    半導體,液晶,太陽能電池等潔凈規格(臭氧水生成部由氟素樹脂材料組成)
    ■臭氧濃度上升快
    達到臭氧最大濃度僅需大約1分鐘
    ■生成器體積小
    長400mm。寬550mm。高820mm(標準規格)
     
    用途
    ?半導體(清洗)
    ?FPD,液晶(清洗)
    ?MEMS,傳感器(清潔)
    ?硬盤(清洗)
    ?太陽能電池(清潔)
    ?醫療(洗手,純凈水管道清洗)
    ?食品(洗手,消毒,除臭)
     
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